| 結(jié)構(gòu)形式 | 棒銷式 |
|---|---|
| 類型 | 臥式砂磨機(jī) |
| 生產(chǎn)能力 | 12000 |
| 適用物料 | 陶瓷墨水、氧化鋯 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 |
| 品牌 | 派勒 |
| 型號(hào) | PHN |
| 送料能力 | 100000 |
鈦白粉研磨機(jī)/專用于鈦白粉分散研磨設(shè)備/納米級(jí)分散
派勒超大型高效納米研磨機(jī)擁有多項(xiàng)發(fā)明**，采用德國DIN工業(yè)和歐洲CEN 以及EMC產(chǎn)品設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)，全氧化鋯或氮化硅轉(zhuǎn)子和碳化硅研磨桶結(jié)構(gòu)，無金屬污染、有極高的耐磨性和較長的使用壽命，能實(shí)現(xiàn)粒徑分布**窄，所生產(chǎn)的顆粒粒徑可達(dá)到50納米以下。
中文內(nèi)容
超大型高效納米研磨機(jī)™ 是舉世聞名的大流量高速納米研磨機(jī)，納米用循環(huán)研磨機(jī)™是PHN 的新一代產(chǎn)品。與其他砂磨機(jī)相比，的用途更加廣泛，適用產(chǎn)品批次更加大。該機(jī)型設(shè)計(jì)新穎，操作簡單，特別適用于細(xì)度要求在納米級(jí)范圍的大批次物料濕法研磨和分散。與傳統(tǒng)砂磨機(jī)比較具有以下優(yōu)點(diǎn)：
Pühler 全新型超大納米研磨機(jī)在全球知名的研磨系統(tǒng)上做了進(jìn)一步的研發(fā); 并取得**局批準(zhǔn)，通過采用**研發(fā)的超大型渦輪式動(dòng)態(tài)轉(zhuǎn)子功能部件與大流量篩筒式分離器分離物料與研磨球的**設(shè)計(jì)理念的臥式整研磨腔砂磨機(jī)能保證獲得**高的生產(chǎn)能力。并將其**合理組合，為您提供更經(jīng)濟(jì)的濕法研磨技術(shù)； 全封閉式，短/粗型的研磨腔設(shè)計(jì)元素，16:10 之黃金分割比例的長度/直徑/線速度系數(shù)比更佳，高能密度（2 kW/dm3）銷棒式高速納米砂磨機(jī)生產(chǎn)效率是普通砂磨機(jī)的3-5倍，攪拌轉(zhuǎn)子可為大尺寸銷棒空心轉(zhuǎn)子或渦輪盤研磨結(jié)構(gòu)二種體系，克服了傳統(tǒng)砂磨機(jī)研磨介質(zhì)分布不均的缺點(diǎn)和單批過小的難題，達(dá)到產(chǎn)量高、批次大的效果。研磨難以分散的材料，經(jīng)第三方驗(yàn)證細(xì)度 D99<30nm；**大研磨腔容量可以達(dá)到250升，研磨產(chǎn)品批次達(dá)到10噸，每小時(shí)流量達(dá)到2800-18000升，所研磨料漿的粘度范圍廣泛：20 mPas - 9000 mPas，采用循環(huán)研磨工藝或多次研磨工藝能使產(chǎn)能提高，產(chǎn)品顆粒級(jí)配分布得以優(yōu)化；通過采用高效分離系統(tǒng) SCS（大流量篩筒縫隙式離心分離器使得即使在非常高的流量下仍能保證研磨珠的安全分離，極大尺寸的筒式離心分離器篩網(wǎng) SCS 使得流動(dòng)阻力（即壓降）**小，由于離心力的作用，空心結(jié)構(gòu)的渦輪轉(zhuǎn)子和主軸一起旋轉(zhuǎn)，空心渦輪轉(zhuǎn)子內(nèi)幾乎無磨球，SCS 出料分離器系統(tǒng)無磨損，出料過流面積大，過濾效果好，工作壽命長；通過改良后的出料口設(shè)置于出料閥蘭的中下部，降低了物料沉湎時(shí)所帶來的研磨腔內(nèi)分離器的堵塞；采用全進(jìn)口帶冷卻液的雙向滑動(dòng)雙端面機(jī)械密封裝置，密封效果好，運(yùn)行可靠，保證了軸承運(yùn)行的可靠性；研磨主軸及進(jìn)料泵的驅(qū)動(dòng)由變頻器控制，并顯示實(shí)際轉(zhuǎn)速和電流，達(dá)到現(xiàn)代化可視管理要求；物料的流量由流量計(jì)控制，研磨筒冷卻水流量測定；研磨腔內(nèi)壓力由壓力傳感器控制，當(dāng)壓力過高時(shí)機(jī)器會(huì)自動(dòng)保護(hù)進(jìn)入停機(jī)報(bào)警狀態(tài)；產(chǎn)品進(jìn)料和出料的溫度可以測量，如果需要，冷卻水溫可測量并自動(dòng)加入，當(dāng)出料物料溫度高于設(shè)定值時(shí)機(jī)器會(huì)自動(dòng)保護(hù)進(jìn)入停機(jī)報(bào)警狀態(tài)；單臺(tái)研磨機(jī)能耗由所配置電柜獨(dú)立電表統(tǒng)計(jì)核算成本，稍加一些智能控制功能，可保證產(chǎn)品的可復(fù)制性及節(jié)省成本，降低能耗等；對(duì)于防金屬污染的物料，可采用氧化鋯陶瓷（碳化硅，氮化硅，GX 280特耐磨鋼）及PU 聚氨酯結(jié)構(gòu)材料。中文應(yīng)用領(lǐng)域
派勒納米研磨機(jī)：主要應(yīng)用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細(xì)研磨及分散：
1) Color paste / Color filter / TFT LCD ：R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級(jí)，透明度需超過90％，粘度控制在 5-15 CPS，含水率在1％以下。
2) Ink-jet Inks：顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級(jí)，粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry：半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達(dá)納米級(jí)且能滿足無金屬離子析出要求。
4) TiOPc (optical contact)：應(yīng)用于雷射列表機(jī)光鼓上所涂布光導(dǎo)體，已研磨分散到納米級(jí)。
5) 納米級(jí)粉體研磨，如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…，可分散研磨到30 nm。
6) 納米級(jí)粉體分散。如將納米粉體分散到高分子，或?qū)⒓{米級(jí)粉體添加到塑膠﹑橡膠等進(jìn)行分散。
7) 醫(yī)藥達(dá)到納米級(jí)要求，且需能滿足FDA 要求。
8) 食品添加劑達(dá)到納米級(jí)之要求。需滿足GMP 要求。
9) 電子化學(xué)品達(dá)到納米級(jí)需求，且需能滿足無金屬離子析出問題。
10)其他特種軍工, 航空納米材料。
11)如:電子產(chǎn)業(yè)﹑光電產(chǎn)業(yè)﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑化纖產(chǎn)業(yè)﹑建材產(chǎn)業(yè)﹑金屬產(chǎn)業(yè)﹑﹑磁性材料﹑保健品﹑生物制藥和細(xì)胞破碎﹑氧化物﹑納米材料﹑醫(yī)藥生化產(chǎn)業(yè)﹑肥皂、皮革、電子陶瓷、導(dǎo)電漿料、膠印油墨、紡織品、噴繪油墨、芯片拋光液、細(xì)胞破碎、化妝品、噴墨墨水、金屬納米材料、塑料材料、特種納米航空材料等行業(yè).